AI算力高速傳輸需求升溫 勤友光電布局精密光學鍍膜Sputter在 EEL雷射AR/HR鍍膜製程

隨著人工智慧（AI）、大型語言模型及高效能運算（HPC）快速發展，資料中心對高速、大量資料傳輸的需求持續攀升，傳統以銅線為主的傳輸架構逐漸面臨頻寬、功耗及傳輸距離等限制，「光進銅退」已成為高速運算與資料中心產業的重要發展趨勢。

在此趨勢下，CPO（Co-Packaged Optics，共封裝光學）受到市場高度關注。透過將光學元件與運算晶片、交換晶片等進行更緊密的整合，CPO可望縮短高速訊號傳輸距離、降低功耗，並進一步提升資料傳輸效率。而作為光通訊系統中的關鍵高能雷射光源，EEL（Edge-Emitting Laser，邊射型雷射）的性能與製程技術，也成為產業關注的重點。

EEL雷射元件在高速光通訊應用中，除了需要具備高效率、高穩定性及高速響應能力，其雷射腔體與光學界面的鍍膜品質亦直接影響元件的光學特性。其中，AR（Anti-Reflection，增透膜）與HR（High-Reflection，高反射膜）鍍膜是雷射元件製程的重要關鍵之一，對雷射輸出效率、反射率及元件可靠度具有重要影響。

圖片來源：https://www.youtube.com/watch?v=nXlQMraQXUo&t=549s

新興智慧顯示科技教育聯盟

看準高速光通訊及CPO市場的發展機會，勤友光電（Kingyoup Optronics, KYO）持續投入精密光學鍍膜設備技術，並以真空磁控濺鍍（Sputter）技術，提供適用於半導體雷射元件AR／HR鍍膜製程的設備解決方案。