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2021.05   勤友光電使用反應式濺鍍TiO2膜在鈣鈦礦太陽                  能電池上的最新運用

        香港浸會大學物理系的蔡林峰、朱芙蓉博士,於Nano select期刊上,(發布日期:04 February 2021) 發表了主題為:Toward efficient and stable operation of perovskite solar cells: Impact of sputtered metal oxide interlayers文章中,針對鈣鈦礦電池所用到的金屬氧化層成膜方法,做了詳細的分析關於TiO2的製備,摘錄如下:通過在Ar / O 2混合氣氛中對Ti靶進行反應性DC濺鍍來實現這一目標的。使用以此方式製備的無定形TiO 2膜,基於玻璃基板的器件表現出16.08%的性能,優於採用退火結晶TiO 2的太陽能電池。無定形膜的光滑表面有利於與相鄰的鈣鈦礦層更緊密的接觸。濺射引起的中性氧空位在VBM的正上方引入了填充的雜質態,從而導致更深的費米能級。易化電荷抽取,作為結果,導致了更高的Jsc和Voc。鈣鈦礦太陽能電池製作,取代不穩定的膜製程。

 

         勤友光電,對於以反應式濺鍍設備,製作TiO2膜,也同樣發現,以DC power或AC Bipolar的方式,使用Ti靶,通入Ar和O2製程氣體,進行反應性濺鍍成TiO2薄膜,並可藉由控制O2於系統中的分壓與分佈,提升整體膜厚的均勻性,增進穿透率,控制薄膜型態,不僅功率調控幅度大,有更佳寬裕的製程參數調整範圍,相較以TiO2靶,需要RF power電源濺鍍,則侷限於特定的氣體比例和電壓區間,製程參數限制狹隘。

 

         勤友光電做為台灣第一的反應式濺鍍(Reactive sputtering)設備商,我們持續在綠能、顯示器、觸控、車載以及半導體封裝等領域,不斷開發新製程,挑戰極限,不論是實驗機、批次式濺鍍設備(Batch sputter)、卷對卷濺鍍設備(R2R Sputter)或是連續式濺鍍設備(Inline Sputter),都能符合客戶需求,降低COO(cost of ownership),維持高品質穩定生產。

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